采用DMD的3D微型光成型机向“纳米”级分辨率发展

 

  

 

      [投影之窗消息]  日前,JSR开始研究D-MEC三维光成型机的分辨率到数百nm级,其于2004年开始销售具有μm级分辨率的光成型机,以开拓新应用领域中的材料市场。尽管该装置的原理与使用紫外线硬化树脂的三维成型机相同,但由于加工分辨率为μm级,因此可加工MEMS元件及微小装置。
  

    为了提高分辨率,JSR考虑改变光学系统。微型成型机需要涂布紫外线硬化树脂,使其变成数μm厚的薄层,以1.7μm的平面方向分辨率对该层进行紫外光照射,便可形成任何形状。反复操作该工序并重叠薄层,便能形成立体形状。这时,该公司的装置可使用DMD(数字微镜器件)芯片进行紫外光照射。DMD芯片有1024×768个13.7μm见方的微镜,可利用透镜聚集其反射光。1.7μm的水平方向分解能取决于该透镜的缩小率。用透镜聚光时,可相应地提高分辨率。
  

 


 
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